【終了】炭素表面への様々な分子の吸着メカニズムに関する研究

希ガスなど高黒鉛化炭素表面への吸着挙動に関する研究は1900年代から100年以上に渡って行われてきた。近年、高精度圧力センサーを備えた装置が登場し、かつ装置の高真空化が可能となり極低圧部からの吸着等温線を高精度に測定することが可能となった。しかしながら、近年の研究トレンドが社会実装にみられる実用化に強く直結した研究に向かっているため、高精度吸着測定が可能になったにも関わらず均一炭素表面など極めて単純な系における気相吸着現象の非常に重要な基礎研究を推進する研究グループが国内外共に極めて少ないのが現状である。本研究では、均一炭素表面への極低圧域から高精度吸着および脱着等温線を50Kから常温に至る広温度域を設定可能なクライオスタットを併用して測定し、さらに実験系と同じ系にてコンピュータシミュレーションを導入することで、より詳細な吸着挙動を明らかとする。最終的にそれら吸着および脱着メカニズムを解明する。

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